Publicado resultado final dos cursos técnicos Subsequente 2016.2

Subsequente_destaque-01

A Pró-Reitoria de Ensino publicou na manhã de hoje (19) o resultado final do processo seletivo para ocupação das vagas dos cursos técnico Subsequente, referente ao segundo semestre de 2016.

Os candidatos aprovados deverão realizar suas pré-matrículas entre os dias 24 e 26 de agosto de 2016, na Diretoria Acadêmica do curso, no horário informado no anexo I do edital. No ato devem estar portando a seguinte documentação:

  • 02 (duas) fotos 3×4 (recentes e iguais);
  • Carteira de identidade (cópia acompanhada do original);
  •  Cópia da Certidão de Nascimento ou Casamento;
  • Certificado de conclusão do ensino médio ou documento equivalente (cópia acompanhada do original);
  • Histórico escolar do ensino médio (cópia acompanhada do original).
  • Título de Eleitor, no caso dos maiores de 18 anos (cópia acompanhada do original);
  • Certificado de Alistamento Militar, de Dispensa de Incorporação ou de Reservista, no caso dos maiores de 18 anos do sexo masculino (cópia acompanhada do original);
  • Cadastro de Pessoa Física (CPF) (cópia acompanhada do original);
  • Parecer de equivalência de estudos da Secretaria Estadual de Educação, para os aprovados que realizaram estudos equivalentes ao Ensino Médio, no todo ou em parte, no exterior;
  • Se apresentar documentos em língua estrangeira, estes deverão estar visados pela autoridade consular brasileira no país de origem e acompanhados da respectiva tradução oficial.

Os candidatos aprovados na Lista Geral, L3 e L4, que comparecerem com toda a documentação requisitada no edital terão suas matrículas homologadas no momento da pré-matrícula. Já os candidatos aprovados nas Listas L1 e L2 deverão, OBRIGATORIAMENTE, além da documentação listada acima, apresentar a documentação comprobatória requisitada no item 63 dos editais, para análise socioeconômica. O processo foi regido pelo edital Nº 13/2016, e o Campus EaD ofertou um total de 40 vagas para o curso de Informática para Internet.

Fonte: Reitoria IFRN.